ASML 推出 High NA EUV 光刻机 TWINSCAN EXE:5000 乐高套装
2024-12-03 06:26:50业界动态 IT之家 溯波(实习)
该乐高模型套装由 ASML 开发人员、乐高爱好者 Rick Lenssen 设计,拥有 851 个部件,定价 227.95 美元。
最新 12 月 2 日消息,ASML 在官网纪念品商城上架了一款特殊的产品:世界首型 High NA EUV 光刻系统 TWINSCAN EXE:5000 的乐高模型套装。
TWINSCAN EXE:5000 光刻机是首款采用 0.55NA 数值孔径的光刻机,其分辨率达 8nm,成像对比度较此前的 NXE 系列 0.33NA EUV 系统高 40%,支持 2nm 逻辑节点图案化,单价达 3.5 亿欧元(最新备注:当前约 26.8 亿元人民币)。
该乐高套装由 ASML 开发人员 —— 同样也是乐高爱好者 —— Rick Lenssen 设计,拥有 851 个部件,宽高深三维 352×99×64 mm,定价 227.95 美元(当前约 1653 元人民币)。
Rick Lenssen 此前曾耗时合计 2.5 年(1.5 年设计蓝图、1 年实际组装)用乐高积木复现了 ASML 的费尔德霍芬主园区,还推出过多款 ASML 主题的乐高套装产品。
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