最新8月1日消息，半导体工艺进入5nm节点之后，EUV光刻机基本上是没法绕过去的，目前全球只有荷兰ASML公司能够生产这种尖端装备，但它背后也离不开德国的核心技术——EUV镜头。

不论是DUV还是EUV光刻，三大核心技术主要是光源、物镜（光学镜头）及工台，ASML公司实际上也是把这些技术整合到一起，目前的EUV光源技术来自他们收购的美国公司Cymer，物镜则来自卡尔蔡司，工台倒是ASML自己联合欧洲多个厂商开发的。

这三个核心部件很难说哪个技术更能卡脖子，但物镜这部分的难度肯定是位居前列的，全球能搞这个的几乎都是光学技术强国，日本能有佳能、尼康两家公司搞出DUV光刻机，也是源于上百年的光学技术积累。

ASML的EUV物镜则是来自另一个光学技术强国德国，卡尔蔡司在这方面也有上百年的积累，EUV光刻机目前正在从第一代的NA 0.33时代提升到NA 0.55时代，该数值越高，光刻机的分辨率就越高，升级之后能将关键尺寸的精度从13nm提升到8nm（DUV的关键尺寸精度在38nm级别）。

研发生产EUV物镜的过程非常复杂，它不是一面镜子，而是多个镜片的组合，整个光学系统有40000个零部件组成，重达12吨。

制造这些镜头的机器主要在德国，设备重达150吨，加工区域是一个5m*5m*10m的巨大真空腔，加工时间长达3个月，因为平整度要求极为夸张，需要磨平到等效太平洋面积那么大平面偏差仅1mm的平整度。

说到这一点，德国这方面的宣传能力显然不如日本了，如果是日本造出了EUV镜头，估计要搞个镜头仙人的传奇，夸夸日本手工打磨的镜头平整度。

不过EUV镜头的发展极限还没到，未来NA能做到1.0左右，可以进一步将关键尺寸的光刻精度提升到6nm，这时候才会逼近极限，相当于正负24个原子的厚度。

掌握了这种杀手锏技术，德国最近也开始研究怎么卡别国的脖子了，不过他们最终恐怕没法把这变成出口管制政策，因为这种东西是定向的，给ASML配套的，卡也是卡ASML脖子，之前就是禁阿森纳协议禁止出口的，也没有向某个东方大国出口过，该国自己的DUV/EUV光刻机只可能用自己开发的镜头。