最新7月24日消息，先进芯片工艺已经离不开EUV光刻机，目前全球只有ASML能量产，美国也有初创企业在研发新型EUV光刻机，他们的难点在于如何拉拢台积电。

台积电是最先进也是产能最大的晶圆代工厂，自然也全球EUV光刻机最大的客户，美国这家公司名为xLight，他们希望能打入台积电的供应链。

但是以目前的方式来看，台积电不可能马上就切换到一个业绩还没法验证的初创企业，为此xLight也想到了一个折中方案，他们表示愿意在台积电工厂旁建设自由电子激光器，自己花钱建厂，然后按照光子使用量对台积电收费，EUV光源将成为公共事业。

台积电这边也不会完全淘汰ASML的EUV光刻机，只是不再使用ASML的LPP光源，先从13.5nm的EUV光源开始，后续一步步升级到1nm，他们希望用这种方式来打破垄断。

xLight的这个设想很有意思，但实际操作中没有任何可行性，一方面ASML的EUV光刻机中，光源系统是其中的核心部分，不可能允许其他厂商拆分使用，技术上也做不到。

另一方面台积电也不会接受这种冒险方式，一年几千亿的生意凭什么去为一家初创企业冒险，哪怕对方承诺自己建设光刻厂。

不过xLight提出的这个思路未来也不排除有发展的可能，他们的EUV光刻技术路线不同于ASML的LPP（激光等离子）光源，而是走自由电子激光器FEL路线，很多网友可能还记得去年在国内炒作很热的光刻工厂的概念，xLight的跟这个设想一样。

光源是决定EUV光刻机分辨率、产能的核心技术之一，Light公司的FEL自由电子激光器光源功率可达1000W，而ASML公司的EUV光刻机光源也就250W，这方面FEL光源是ASML的4倍强。

除了1000W功率，2000W功率的光源也是他们要做的，只不过需要的时间更长——ASML当然也在努力提升LPP光源功率，600W已经问世，1000W功率未来也会做到。

不过FEL自由电子激光器的缺点也很明显，那就是体积很大（可类比高能物理中的各种加速器），投资高，所以才有了光刻工厂的说法，一座光刻工厂可以给多个光刻机提供光源。

因此xLight想拉拢台积电切换到FEL光源的设想是很难实现的，大胆点来说这个技术在10年内恐怕都没法真正用于芯片量产，何况xLight目前还是个初创企业，技术攻关也没完全解决呢，台积电没可能现在对他们的解决方案产生兴趣。